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企业刑事合规自查与应对

面向企业的知识产权刑事风险自查清单与报案/应诉流程要点(承接产品“知产合规”与“知产辩护”)。

一、刑事风险自查清单(四域)

  1. 商标域:是否使用他人注册商标;ODM/OEM 授权链条是否完整;串货与贴牌边界。
  2. 著作权域:源代码/美术/视听作品权属;开源协议合规;员工作品职务归属。
  3. 商业秘密域:是否建立保密措施(制度+权限+留痕);涉密人员离职管控。
  4. 专利域:对外提供技术是否涉‘为境外’要件;专利标注真实性。

二、被刑事盯上后的应对流程

  1. 紧急介入与会见(如涉羁押)
  2. 案情与证据评估,出具阶段法律意见
  3. 不构成犯罪的初步辩护 / 单位合规不起诉申请
  4. 配合侦查,固定有利证据
  5. 结案复盘与合规整改陪跑
本页为一般性指引,不构成具体案件法律意见,亦不对合规不起诉/不捕不诉等结果作承诺。

常见问题

企业怎么做知识产权刑事合规自查?
从商标、著作权、商业秘密、专利四域扫描高频入罪点,重点补全商业秘密‘非公知性+价值性+保密措施’的证据留痕。
单位犯罪中,企业能争取合规不起诉吗?
涉案企业可通过合规整改+监管考察争取合规不起诉;是否适用由办案机关依法决定,本网站不作承诺。
被恶意报案,企业怎么应对?
及时固定无罪/罪轻证据,配合律师做不构成犯罪的初步辩护与报案反制评估。